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化学镀镍，又称为无电解镀镍，是在金属盐和还原剂共同存在的溶液中靠自催化的化学反应而在金属表面沉积了金属镀层的新的成膜技术。
电镀是利用外电流将电镀液中的金属离子在阴极上还原成金属的过程。而化学镀是不外加电流，在金属表面的催化作用下经控制化学还原法进行的金属沉积过程。因不用外电源直译为无电镀或不通电镀。由于反应必须在具有自催化性的材料表面进行，美国材料试验协会(ASTMB-347)推荐用自催化镀一词(Autocatalyticplating)。对化学镀镍而言，我国1992年颁布的国家标准(GB/T13913-92)则称为自催化镍-磷镀层(AutocatalyticNickelPhosphorusCoating)，其意义与美国材料试验协会的名称相同。由于金属的沉积过程是纯化学反应(催化作用当然是重要的)，所以将这种金属沉积工艺称为“化学镀”最为恰当，这样它才能充分反映该工艺过程的本质。从语言学角度看Chemical,Nonelectrolytic,Electroless三个词主是一个意义了，直译为无电镀一词是不确切的。“化学镀”这个术语目前在国内外已被大家认同和采用。
化学镀镍所镀出的镀层为镍磷合金，按其磷含量的不同可分为低磷、中磷、高磷三大类：
磷含量低于3%的称为低磷;磷含量在3-10%的为中磷;磷含量高于10%的为高磷;
其中中磷的跨度比较大，一般我们常见的中磷镀层为6-9%的磷含量。
