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采用熔盐电解法在碳阴极上电镀TiB2铝电解用惰性阴极材料，电解温度800℃，电解质组成(质量分数，％)为KCI4．8，KF55．7，K2TiF615．3，KBF424．2，电流密度为0．3A／cm2，电解3h．对制得的镀层做XRD和EMP电子探针形貌分析，实验结果表明，镀层成分为单一的TiB^2。无杂相．镀层厚度可达0．2mm，表面平整，分布均匀，与碳基体结合良好，且有金属光泽·说明该电解条件下，Ti和B能够在阴极上共沉积并生成TiB2．
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