沃斯回火延性鑄鐵(Austempered ductile iron, ADI)因具有高強度、高韌性及低成本等優點，是相當有應用潛力的工程材料。唯ADI受限於回火溫度(Ms-450℃)，故無法使用傳統高溫表面處裡來改善性質。因此本研究利用陰極電弧沉積(Cathodic arc deposition, CAD) CrTiAlN及無電鍍鎳(EN)雙重低溫製程對ADI基材進行表面改質，然後進一步分析不同製程的鍍膜特性(包括結構、粗糙度及附著性等)及進行ADI鍍膜前後之極化(3.5%NaCl)與浸泡(10%HCl、10%H2SO4)腐蝕實驗，以探討CrTiAlN/EN複合膜對ADI耐蝕性之影響。實驗結果顯示：ADI經此雙重低溫表面處理後，並不會劣化內部的沃斯肥粒體顯微結構。有ENI為中介層的CrTiAlN複合膜不但可降低鍍膜表面粗糙度(Ra值)、提高鍍膜附著性及表面硬度，而且可明顯地改善在氯化鈉(NaCl)、鹽酸(HCl)及硫酸(H2SO4)等腐蝕環境之耐蝕性。
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