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抛光机操作的关键是要设法得到大的抛光速率，以便赶快除掉磨光时发生的损害层。一起也要使抛光损害层不会影响终调查到的安排，即不会造成假安排。前者要求运用较粗的磨料，以确保有较大的抛光速率来去除磨光的损害层，但抛光损害层也较深；后者要求运用细的资料，使抛光损害层较浅，但抛光速率低。处理这个对立的好的方法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛意图是去除磨光损害层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损害是非必须的考虑，不过也应当尽可能小； 拉丝机其次是精抛（或称终抛），其意图是去除粗抛发生的表层损害，使抛光损害减到小。
抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应平行并均匀地轻压在抛光盘上，留意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。一起还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以防止抛光织物部分磨损太快在抛光过程中要不断增加微粉悬浮液，使抛光织物坚持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕效果，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相发生\"曳尾\"现象；湿度太小时，由于冲突生热会使试样升温，润滑效果减小，磨面失去光泽，乃至呈现黑斑，轻合金则会抛伤外表。为了到达粗抛的意图，要求转盘转速较低，好不要超越500r/min；抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，由于还要去掉变形层。粗抛后磨面润滑，但黯淡无光，在显微镜下调查有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当进步，抛光时间以抛掉粗抛的损害层为宜。精抛后磨面明亮如镜，在显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。
