英微米晶圆表面微粒分析仪U-III该产品专为高洁净度制造场景设计，采用革命性激光传感技术与智能采样系统，可精 准检测0.1微米级表面颗粒污染，助力半导体、液晶面板及精密电子行业实现更高良率与可靠性。

核心技术创新

纳米级检测能力

U-III搭载HeNe激光传感器，分辨率达0.1微米，支持0.1-5.0微米颗粒粒径的六通道分类统计（0.1/0.2/0.3/1.0/3.0/5.0μm），覆盖半导体制造中对超细微粒的严苛检测需求。

静态采样模式：通过优化气流控制，减少测量误差，提升数据稳定性。

智能化设计与操作体验

7英寸高分辨率触控屏：支持实时数据可视化与交互操作，简化流程。

双电池热插拔系统‌：支持连续生产场景下的不间断作业，电池更换无需停机。

USB数据接口与软件升级‌：便捷导出检测报告，并可通过固件更新持续优化性能。

行业应用与效益

提升制造效率

减少50%自净时间‌：通过量化表面污染数据，缩短设备维护周期（PM周期），提升产线吞吐量。

延长MTBC（平均无故障周期）：结合颗粒控制策略，关键设备可靠性提升4倍以上。

覆盖高洁净场景

半导体制造：晶圆表面、机台内腔等关键区域的洁净度验证。

精密光学与电子：液晶面板、光学镜片组件、医疗器械的表面污染控制。

符合国际标准

产品严格遵循ISO-14644-9表面粒子控制规范，为全球半导体厂商提供标准化检测工具。

测量粒径：A 0.3um、2.5um、10um；

          B 0.3um、(0.5/1.0/2.5/5.0)um、10um；

          C 0.3um、0.5um、1.0um、2.5um、5.0m、10um；

          D 0.5um、1.0um、1.5um、2.0um、2.5um、3.0um；

          E 0.5um、1.0um、3.0um、5.0um、10.0um、25.0um；

          F 0.10um、0.2um、0.25um、0.5um、0.7um、1.0 μm;