光学真空镀膜机旋转阴极装置与行内普通平面靶装置相比靶材使用周期与利用效率显著提高。可客制化的基板工件架结构定制，给客户产品摆放达到最大的利用空间。高效率真空泵组配比与精密的腔体结构使我司抽气效率达到行业最佳水平。

汇成专利RF离子源具有工作范围广能量均衡，高离化率，超稳定工作效率，低耗能等特点。可生产高折射率氮化薄膜，提高薄膜硬度性能。低温成膜，可应对各种用途。可依靠负载锁定装置保持稳定的成膜品质。利用自动溅射控制装置，使溅射工艺实现了自动化。可选“校正板外部调节机构”。