在真空压铸中控制真空度的方法以及完成该方法的真空控制系统
在真空压铸中控制真空度的方法以及完成该方法的真空控制系统
2010-12-06 15:09  点击:77
[摘要]  在真空压铸中控制真空度的方法以及完成该方法的真空控制系统   一种真空压铸控制真空度的方法,包括:利用一个压射柱塞将

  在真空压铸中控制真空度的方法以及完成该方法的真空控制系统

  一种真空压铸控制真空度的方法,包括:利用一个压射柱塞将熔融金属射入形成在一个压型内的一个型腔内,打开一个包含在一个真空系统内的与该型腔相连的一个真空阀以将熔融金属吸入该型腔以及给射入该型腔的熔融金属施加压力,其特征在于该方法包括: 在压射柱塞(13)推进到第一位置(S↓[VO])时打开真空阀(19)使该型腔开始排气; 在压射柱塞(13)达到紧接着压射柱塞完成熔融金属压射的终止位置之前的第二位置(S↓[VC])时测量真空系统内的真空度; 将测得的真空度(H)与一个预定的标准真空度(H↓[O])相比较; 当测得的真空度高于标准真空度时将第一位置(S↓[VO])向压型(1)的方向移动一个预定的距离(ΔS)或者当测得的真空度低于标准真空度时将第一位置背离压型(1)的方向移动一个预定的距离(ΔS)以设置一个调整后的第一位置; 以及当在下一个压射周期中压射柱塞(13)达到调整后的第一位置时打开真空阀(19)。

专利号: 96110943
申请日: 1996年6月8日
公开/公告日: 1997年6月4日
授权公告日: 2001年4月18日
申请人/专利权人: 东芝机械株式会社
国家/省市: 日本(JP)
申请人地址: 日本东京都
邮编:
发明/设计人: 岩本典裕、儿玉忍
代理人: 章社杲
专利代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司(72001)
专利代理机构地址: 香港湾仔港湾道23号鹰君中心22字楼()
专利类型: 发明
公开号: 1150921
公告日:
授权日: 20
公告号: 1064571
优先权: 日本1995年6月8日142019/95
审批历史:
附图数: 7
页数: 15
权利要求项数: 8

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